dr inż. Marcin Juchniewicz

Adiunkt badawczy

Biografia

Ukończył studia na Wydziale Chemicznym Politechniki Warszawskiej. W 2014 r. obronił rozprawę doktorską: “Opracowanie i badania mikroukładów z konduktometryczną detekcją jonowego składu próbki”. Przez 6 lat pracował w Instytucie Technologii Elektronowej gdzie zajmował się głównie technologią półprzewodników III‑V. W latach 2016‑2019 był inżynierem procesowo-serwisowym w Oxford Instruments. Od 2019 roku jest pracownikiem CEZAMAT. Jego zainteresowania badawcze obejmują między innymi procesy plazmowe w technologii półprzewodnikowej oraz projektowanie i konstruowanie układów mikroprzepływowych.

Obszar badań

  • procesy plazmowe: ICP, RIE, PECVD, ALD, rozpylanie magnetronowe
  • układy mikroprzepływowe (mikrofluidyka)
  • detekcja optyczna i elektrochemiczna w układach mikroprzepływowych
  • fotolitografia

Wybrane publikacje

  1. Pągowska K., Kozubal M., Taube A., Kruszka R., Kamiński M., Kwietniewski N., Juchniewicz M., Szerling A., The interplay between damage- and chemical-induced isolation mechanism in Fe+-implanted AlGaN/GaN HEMT structures, Materials Science in Semiconductor Processing, 127, 2021.
  2. Ekielski, M., Juchniewicz, M., Płuska, M., Wzorek, M., Kamińska, E., Piotrowska, A. Nanometer scale patterning of GaN using nanoimprint lithography and Inductively Coupled Plasma etching (2015) Microelectronic Engineering, 133, pp. 129-133.
  3. Juchniewicz, M., Chudy, M., Brzózka, Z., Dybko, A. Bonding-less (B-less) fabrication of polymeric microsystems (2009) Microfluidics and Nanofluidics, 7 (5), pp. 733-737.
Skip to content